JASIS 2025、ブース7B-407でCIQTEKのフラッグシップテクノロジーをご覧ください

ガ + 集束イオンビーム電界放出走査電子顕微鏡 その CIQTEK DB550 集束イオンビーム走査電子顕微鏡（FIB-SEM） ナノ分析および試料作製用の集束イオンビームカラムを備えています。「スーパートンネル」電子光学技術、低収差、非磁性対物レンズ設計を採用し、「低電圧・高分解能」という特長により、ナノスケールの分析能力を確保しています。 イオンカラムはGa + 極めて安定かつ高品質のイオンビームを発生する液体金属イオン源を搭載し、ナノファブリケーションを実現します。DB550は、ナノマニピュレーター、ガスインジェクションシステム、そしてユーザーフレンドリーなGUIソフトウェアを統合した、オールインワンのナノ分析・ファブリケーションワークステーションです。

高感度で操作が簡単なコンパクトな X バンド EPR。化学、触媒、材料研究に最適です。   CIQTEK EPR200M コンパクト ベンチトップ 電子常磁性共鳴（ EPR分光計 検出と分析のために設計された フリーラジカル、遷移金属イオン、常磁性欠陥 これにより、研究者は化学反応をリアルタイムで監視し、高感度かつ安定した材料に関するより深い洞察を得ることができます。   世界中の研究者から信頼されています >> 300 台以上の EPR システムを設置 | 170以上の科学出版物 <<   専門家にお問い合わせください > 米国および北米: info.usa@ciqtek.com > 国際およびその他の地域: info@ciqtek.com

高速 完全自動化フィールドエミッション 走査型電子顕微鏡 ワークステーション CIQTEK HEM6000 高輝度大ビーム電流電子銃、高速電子ビーム偏向システム、高電圧サンプルステージ減速、ダイナミック光軸、液浸電磁静電コンボ対物レンズなどの設備技術を採用し、ナノスケールの解像度を確保しながら高速画像取得を実現します。 自動化された操作プロセスは、より効率的でスマートな大面積高解像度イメージングワークフローなどの用途向けに設計されています。そのイメージング速度は、従来の電界放出走査電子顕微鏡（FESEM）の5倍以上です。

超高解像度電界放出走査電子顕微鏡（FESEM） その CIQTEK SEM5000X は、最適化された電子光学カラム設計を採用した超高分解能FESEMです。全体的な収差を30%低減し、0.6nm@15kVおよび1.0nm@1kVという超高分解能を実現しています。高い分解能と安定性により、先端ナノ構造材料研究やハイテクノードの半導体ICチップの開発・製造において優位性を発揮します。

超高解像度 タングステンフィラメント走査型電子顕微鏡 その CIQTEK SEM3300 走査型電子顕微鏡（SEM） 「スーパートンネル」電子光学系、インレンズ電子検出器、静電・電磁複合対物レンズなどの技術を採用しています。これらの技術をタングステンフィラメント顕微鏡に適用することで、長年のSEMの分解能限界を突破し、これまで電界放出型SEMでしか実現できなかった低電圧分析をタングステンフィラメントSEMで実行できるようになります。