超高解像度 タングステンフィラメント走査型電子顕微鏡
その CIQTEK SEM3300 走査型電子顕微鏡（SEM） 「スーパートンネル」電子光学系、インレンズ電子検出器、静電・電磁複合対物レンズなどの技術を採用しています。これらの技術をタングステンフィラメント顕微鏡に適用することで、長年のSEMの分解能限界を突破し、これまで電界放出型SEMでしか実現できなかった低電圧分析をタングステンフィラメントSEMで実行できるようになります。
リチウム電池のダイヤフラムを1kVで20,000倍に拡大してフィルムに撮影した画像、SEM3300で撮影した画像
垂直に取り付けられたチャンバーカメラを使用して、標本ステージナビゲーション用の光学画像をキャプチャすると、より直感的で正確な標本の位置決めが可能になります。
自動明るさ・コントラスト、自動フォーカス、自動非点補正機能が向上しました。ワンクリックで撮影できます。
すぐに使用できる、調整済みの交換用フィラメント モジュール。
CIQTEK SEM 顕微鏡ソフトウェアは、さまざまな種類の粒子および細孔サンプルに適したさまざまなターゲット検出およびセグメンテーション アルゴリズムを採用しています。粒子および細孔統計の定量分析を可能にし、材料科学、地質学、環境科学などの分野に適用できます。
電子顕微鏡で撮影した画像に対してオンラインまたはオフラインの画像後処理を実行し、一般的に使用される EM 画像処理機能、便利な測定ツール、注釈ツールを統合します。
線幅エッジの自動認識により、より正確な測定と高い一貫性を実現します。ライン、スペース、ピッチなど、複数のエッジ検出モードに対応しています。複数の画像形式に対応し、一般的な画像後処理機能も豊富に搭載しています。使いやすく、効率的で、精度の高いソフトウェアです。
画像取得、動作条件設定、電源オン/オフ、ステージ制御など、SEM顕微鏡を制御するための一連のインターフェースを提供します。簡潔なインターフェース定義により、特定の電子顕微鏡操作スクリプトとソフトウェアを迅速に開発でき、関心領域の自動追跡、産業オートメーションデータの取得、画像ドリフト補正などの機能を実現できます。珪藻類分析、鋼鉄不純物検査、清浄度分析、原材料管理などの専門分野のソフトウェア開発に使用できます。
| CIQTEK SEM3300 SEM顕微鏡の仕様 | ||||
| 電子光学 | 解決 |
2.5 nm @ 15 kV、SE
4 nm @ 3 kV、SE 5 nm @ 1 kV、SE |
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| 加速電圧 | 0.1 kV～30 kV | |||
| 拡大（ポラロイド） | 1倍～30万倍 | |||
| 標本室 | カメラ | 光学航法 | ||
| チャンバーモニタリング | ||||
| ステージタイプ | 5軸真空対応電動 | |||
| XY範囲 | 125ミリメートル | |||
| Z範囲 | 50ミリメートル | |||
| Tレンジ | - 10°～90° | |||
| Rレンジ | 360° | |||
| SEM検出器 | 標準 |
レンズ内電子検出器（インレンズ）
エバーハート・ソーンリー検出器（ETD） |
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| オプション |
格納式後方散乱電子検出器（BSED）
エネルギー分散型分光計（EDS / EDX） 電子後方散乱回折パターン（EBSD） |
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| オプション | 試料交換ロードロック | |||
| トラックボールとノブのコントロールパネル | ||||
| ユーザーインターフェース | オペレーティング·システム | ウィンドウズ | ||
| ナビゲーション | 光学ナビゲーション、ジェスチャークイックナビゲーション、トラックボール（オプション） | |||
| 自動機能 | 自動明るさ・コントラスト、自動フォーカス、自動非点補正 | |||
Ga+集束イオンビーム電界放出走査電子顕微鏡 その CIQTEK DB550 集束イオンビーム走査電子顕微鏡（FIB-SEM） ナノ分析および試料作製用の集束イオンビームカラムを備えています。「スーパートンネル」電子光学技術、低収差、非磁性対物レンズ設計を採用し、「低電圧・高分解能」という特長により、ナノスケールの分析能力を確保しています。 イオンカラムは、Ga+液体金属イオン源から高安定性・高品質イオンビームを供給し、ナノファブリケーション能力を実現します。DB550は、ナノマニピュレーター、ガスインジェクションシステム、そしてユーザーフレンドリーなGUIソフトウェアを統合したオールインワンのナノ分析・ファブリケーションワークステーションです。
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高速 完全自動化フィールドエミッション 走査型電子顕微鏡 ワークステーション CIQTEK HEM6000 高輝度大ビーム電流電子銃、高速電子ビーム偏向システム、高電圧サンプルステージ減速、ダイナミック光軸、液浸電磁静電コンボ対物レンズなどの設備技術を採用し、ナノスケールの解像度を確保しながら高速画像取得を実現します。 自動化された操作プロセスは、より効率的でスマートな大面積高解像度イメージングワークフローなどの用途向けに設計されています。そのイメージング速度は、従来の電界放出走査電子顕微鏡（FESEM）の5倍以上です。
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超高解像度電界放出走査電子顕微鏡（FESEM） その CIQTEK SEM5000X は、最適化された電子光学カラム設計を採用した超高分解能FESEMです。全体的な収差を30%低減し、0.6nm@15kVおよび1.0nm@1kVという超高分解能を実現しています。高い分解能と安定性により、先端ナノ構造材料研究やハイテクノードの半導体ICチップの開発・製造において優位性を発揮します。
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CIQTEKを読む SEM 顕微鏡 顧客の洞察と SEM 業界のリーダーとしての CIQTEK の強みと実績について詳しくご覧ください。 メールアドレス: info@ciqtek.com
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