大容量試料
のクロススケールイメージングのための高速走査型電子顕微鏡CIQTEK HEM6000は、高輝度大ビーム電流電子銃、高速電子ビーム偏向システム、高電圧試料ステージ減速、ダイナミック光軸、浸漬電磁・静電コンボ対物レンズなどの技術を搭載し、高輝度を実現します。 - ナノスケールの解像度を確保しながら画像取得を高速化します。
自動化された操作プロセスは、より効率的かつスマートな大面積高解像度イメージング ワークフローなどのアプリケーション向けに設計されています。イメージング速度は、従来の電界放射型走査型電子顕微鏡 (fesem) に比べて 5 倍以上に達します
滞留時間 10 ns/ピクセル、最大画像取得速度 2*100M ピクセル/秒
電気光学システム | 解決策 | 1.3nm@3kV、SE; 2.2 nm@1 kV、SE | |||
1.9 nm @ 3 kV、BSE; 3.3 nm@1 kV、BSE | |||||
倍率 | 66 - 1,000,000x | ||||
加速電圧 | 0.1 kV ~ 6 kV (減速モード) | ||||
6 kV ~ 30 kV (減速なしモード) | |||||
電子銃 | 高輝度ショットキー電界放出型電子銃 | ||||
対物レンズの種類 | 液浸電磁・静電複合対物レンズ | ||||
サンプルローディングシステム | 真空システム | 全自動オイルフリー真空システム | |||
検体モニタリング | 水平メインチャンバー監視カメラ;垂直サンプル交換ロードロックチャンバー監視カメラ | ||||
最大サンプルサイズ | 直径4インチ | ||||
試料ステージ |
タイプ | 電動3軸試料ステージ(※オプションの圧電駆動試料ステージ) | |||
移動範囲 | X、Y: 110 mm; Z:28mm | ||||
再現性 | X: ±0.6μm; Y:±0.3μm | ||||
標本交換 |
フルオート | ||||
サンプル交換時間 | -15 分 | ||||
ロードロックチャンバーのクリーニング | 全自動プラズマ洗浄システム | ||||
画像の取得と処理 | 滞留時間 | 10 ns/ピクセル | |||
取得速度 | 2*100M ピクセル/秒 | ||||
画像サイズ | 8K*8K | ||||
検出器とアクセサリ |
標準構成 | レンズ内電子検出器 | |||
オプションの構成 |
低角度反射電子検出器 | ||||
インカラム高角反射電子検出器 | |||||
圧電駆動試料ステージ | |||||
高解像度大FOVモード(SW) | |||||
ロードロックチャンバープラズマクリーニングシステム | |||||
6インチ試料ローディングシステム | |||||
アクティブ防振プラットフォーム | |||||
AI ノイズリダクション。広い面積のフィールドステッチ。 3D再構築 | |||||
ユーザーインターフェース |
言語 | 英語 | |||
OS | ウィンドウ | ||||
ナビゲーション | 光学式ナビゲーション、ジェスチャークイックナビゲーション | ||||
自動機能 | 自動サンプル認識、自動撮像領域選択、自動明るさとコントラスト、自動フォーカス、自動スティグマメーター |