Ga+集束イオンビーム電界放出走査電子顕微鏡
その CIQTEK DB550 集束イオンビーム走査電子顕微鏡（FIB-SEM） ナノ分析および試料作製用の集束イオンビームカラムを備えています。「スーパートンネル」電子光学技術、低収差、非磁性対物レンズ設計を採用し、「低電圧・高分解能」という特長により、ナノスケールの分析能力を確保しています。
イオンカラムは、Ga+液体金属イオン源から高安定性・高品質イオンビームを供給し、ナノファブリケーション能力を実現します。DB550は、ナノマニピュレーター、ガスインジェクションシステム、そしてユーザーフレンドリーなGUIソフトウェアを統合したオールインワンのナノ分析・ファブリケーションワークステーションです。
1. 「スーパートンネル 「 電子光学コラム技術/コラム内ビーム減速
空間充電効果を低減し、低電圧分解能性能を確保します。
2. 電子ビーム経路におけるクロスオーバーフリー
レンズの収差を効果的に低減し、解像度を向上します。
3. 電磁・静電複合対物レンズ
収差を低減し、低電圧での解像度を大幅に向上し、磁性サンプルの観察を可能にします。
4. 水冷式恒温対物レンズ
対物レンズ性能の安定性、信頼性、再現性を確保します。
5. 電磁ビーム偏向による可変多孔開口切替システム
機械的な動作なしで絞りを自動的に切り替えるため、さまざまな撮影モードをすばやく切り替えることができます。
解像度: 3 nm@30 kV
プローブ電流: 1 pA～65 nA
加速電圧範囲: 0.5 kV～30 kV
イオン源交換間隔: ≥1000時間
安定性: 72時間連続動作
チャンバー内部に取り付けられた
3軸全圧電駆動
ステッピングモーターの精度≤10 nm
最大移動速度2 mm/s
統合制御システム
単一のGIS設計
さまざまなガス前駆体源が利用可能
針の挿入距離 ≥35 mm
動作再現性≤10μm
加熱温度制御の再現性≤0.1°C
加熱範囲：室温～90℃（194 °F ）
統合制御システム
>> 半導体
半導体業界では、ICチップに様々な故障が発生する可能性があります。信頼性向上のため、様々な分析手法が用いられています。特に、集束イオンビーム（FIB）分析は信頼性の高い分析技術です。
試料特性評価 / マイクロナノ加工 / 断面分析 / TEM試料作製 / 故障解析
>> 新エネルギー産業
研究およびプロセス開発のための材料断面の観察と分析。
形態観察 / 粒径分析 / 断面分析 / 組成・相分析 / リチウムイオン電池材料の故障解析 / TEMサンプルP 賠償
>> セラミック素材
材料分析: FIB-SEM システムは、後方散乱電子 (BSE)、エネルギー分散型 X 線分光法 (EDX)、電子後方散乱回折パターン (EBSD)、二次イオン質量分析法 (SIMS) などのさまざまな信号検出モードと組み合わせて、セラミック材料の高精度なマイクロナノ加工とイメージングを実行し、3 次元空間の深さでマイクロからナノスケールの材料を調査できます。
>> 合金素材
金属の強度、硬度、靭性などを高めるために、冶金、鋳造、押し出しなどの方法を使用して、セラミック、金属、繊維などの他の物質が金属に追加され、強化相と呼ばれます。
FIB-SEMで作製したTEM試料は、透過電子信号を通して強化相や粒界原子などの情報を観察するために使用されます。TEM試料は、透過型菊池回折（TKD）分析、金属組織分析、組成分析、合金断面のin-situ試験などに使用できます。
高度に統合されたユーザーインターフェースプラットフォーム
SEM 顕微鏡の画像処理機能と処理機能は全体的なユーザー インターフェイス内に統合されており、比較参照が左右に表示されます。
ガス注入システムやナノマニピュレーターなどのアクセサリハードウェアとユーザーインターフェイスを自社開発し、直感的なレイアウト設計で操作が簡単です。
チャンバーの汚染を効果的に低減するリニアガイドレール設計、引き出し式の開閉。
>> エネルギー分散分光法
>> カソードルミネッセンス
>> EBSD
| CIQTEK FIB-SEM DB550 仕様 | ||
| 電子光学 | 電子銃型 | 高輝度ショットキー電界放出電子銃 |
| 解決 | 0.9 nm@15 kV; 1.6 nm@1 kV | |
| 加速電圧 | 0.02 kV～30 kV | |
| イオンビームシステム | イオン源タイプ | ガリウム |
| 解決 | 3 nm@30 kV | |
| 加速電圧 | 0.5 kV～30 kV | |
| 標本室 | 真空システム | 全自動制御、オイルフリー真空システム |
| カメラ |
3台のカメラ （光学ナビゲーション×1 + チャンバーモニター×2） |
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| ステージタイプ | 電動5軸機械式ユーセントリック試料ステージ | |
| ステージ範囲 |
X=110 mm、Y=110 mm、Z=65 mm T: -10°~+70°、R:360° |
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| SEM検出器と拡張機能 | 標準 |
レンズ内電子検出器 エバーハート・ソーンリー検出器（ETD） |
| オプション |
格納式後方散乱電子検出器（BSED） 格納式走査透過電子顕微鏡検出器（STEM） エネルギー分散型分光計（EDS/EDX） 電子後方散乱回折パターン（EBSD） ナノマニピュレーター ガス注入システム プラズマクリーナー 試料交換ロードロック トラックボールとノブのコントロールパネル |
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| ユーザーインターフェース | 言語 | 英語 |
| オペレーティング·システム | ウィンドウズ | |
| ナビゲーション | 光学ナビゲーション、ジェスチャークイックナビゲーション | |
| 自動機能 | 自動明るさ・コントラスト、自動フォーカス、自動非点補正 | |
超高解像度電界放出走査電子顕微鏡（FESEM） その CIQTEK SEM5000X は、最適化された電子光学カラム設計を採用した超高分解能FESEMです。全体的な収差を30%低減し、0.6nm@15kVおよび1.0nm@1kVという超高分解能を実現しています。高い分解能と安定性により、先端ナノ構造材料研究やハイテクノードの半導体ICチップの開発・製造において優位性を発揮します。
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分析的 ショットキー 電界放出走査電子顕微鏡（FESEM） CIQTEK SEM4000Pro 高輝度・長寿命のショットキー電界放出電子銃を搭載した分析用FE-SEMモデルです。3段電磁レンズ設計により、EDS/EDX、EBSD、WDSなどの分析アプリケーションにおいて大きなメリットを提供します。低真空モードと高性能低真空二次電子検出器に加え、格納式反射電子検出器を標準装備しており、導電性の低い試料や非導電性試料の観察に便利です。
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超高解像度 タングステンフィラメント走査型電子顕微鏡 その CIQTEK SEM3300 走査型電子顕微鏡（SEM） 「スーパートンネル」電子光学系、インレンズ電子検出器、静電・電磁複合対物レンズなどの技術を採用しています。これらの技術をタングステンフィラメント顕微鏡に適用することで、長年のSEMの分解能限界を突破し、これまで電界放出型SEMでしか実現できなかった低電圧分析をタングステンフィラメントSEMで実行できるようになります。
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CIQTEKを読む SEM 顕微鏡 顧客の洞察と SEM 業界のリーダーとしての CIQTEK の強みと実績について詳しくご覧ください。 メールアドレス: info@ciqtek.com
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