南アフリカ、ヨハネスブルグの Analytica Lab Africa 2023 に CIQTEK が出展

CIQTEK SEM5000 は、高圧電子ビームトンネル技術 (SuperTunnel)、低収差、非浸漬を備えた高度な電子光学コラム設計の恩恵を受け、豊富な機能によってサポートされる高解像度のイメージングおよび分析能力を備えた電界放射型走査電子顕微鏡です。対物レンズにより、低電圧・高分解能イメージングを実現し、磁性試料の分析も可能です。 光学式ナビゲーション、自動化された機能、慎重に設計された人間とコンピューターの対話型ユーザー インターフェイス、および最適化された操作と使用プロセスにより、専門家かどうかに関係なく、高解像度のイメージングと分析作業をすぐに開始して完了できます。

超高分解能フィールド排出走査型電子顕微鏡（FESEM） CIQTEK SEM5000X 最適化された電子光学カラムの設計を備えた超高解像度FESEMであり、全体的な異常を30％削減し、0.6 nm@15 kVおよび1.0 nm@1 kVの超高解像度を達成しました。その高解像度と安定性により、高度なナノ構造材料の研究、およびハイテクノードの半導体ICチップの開発と製造において、それを有利にします

高性能かつユニバーサルなタングステン フィラメント SEM 顕微鏡 CIQTEK SEM3200 SEM 顕微鏡

低励起下での高分解能 CIQTEK SEM5000Proは、低励起電圧下でも高分解能に特化したショットキー電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)です。高度な「スーパートンネル」電子光学技術を採用することで、静電磁複合レンズ設計と合わせてクロスオーバーのないビーム経路が容易になります。 これらの進歩により、空間帯電効果が低減され、レンズ収差が最小限に抑えられ、低電圧でのイメージング解像度が向上し、1 kV で 1.2 nm の解像度が達成され、非導電性または半導電性サンプルの直接観察が可能になり、サンプルを効果的に削減できます。放射線によるダメージ

大容量試料のクロススケールイメージングを実現する高速走査型電子顕微鏡 CIQTEK HEM6000高輝度大ビーム電流電子銃、高速電子ビーム偏向システム、高電圧試料ステージ減速、ダイナミック光軸、液浸電磁・静電コンボ対物レンズなどの設備技術ナノスケールの解像度を確保しながら高速画像取得を実現します。 自動化された操作プロセスは、より効率的かつスマートな大面積高解像度イメージング ワークフローなどのアプリケーション向けに設計されています。イメージング速度は、従来の電界放射型走査電子顕微鏡 (FESEM) よりも 5 倍以上高速に達することができます。

次世代タングステンフィラメント走査型電子顕微鏡 CIQTEK SEM3300走査型電子顕微鏡 (SEM)には、「スーパートンネル」電子光学、インレンズ電子検出器、静電および電磁複合対物レンズなどの技術が組み込まれています。これらの技術をタングステン フィラメント顕微鏡に適用することにより、このような SEM の長年の分解能限界が超えられ、以前は電界放出型 SEM でのみ達成できた低電圧分析タスクをタングステン フィラメント SEM で実行できるようになりました。

120kV 電界放射型透過電子顕微鏡 (TEM) １．分割されたワークスペース: ユーザーは、TEM への環境干渉を軽減する分割された部屋で快適に TEM を操作できます。 ２．高い運用効率: 指定されたソフトウェアは高度に自動化されたプロセスを統合し、リアルタイム監視による効率的な TEM インタラクションを可能にします。 ３．アップグレードされた操作体験: 高度に自動化されたシステムを備えた電界放出型電子銃を搭載。 ４．高い拡張性: ユーザーがより上位の構成にアップグレードできるように、さまざまなアプリケーション要件を満たす十分なインターフェイスが確保されています。