電子顕微鏡研究室の環境は、電子顕微鏡自体には直接影響しませんが、むしろ顕微鏡の画像品質と全体的なパフォーマンスに影響を与えます。電子顕微鏡の動作中、細い電子ビームは高真空環境内を移動し、0.7 メートルの距離を移動する必要があります (1S2 キャニング 3E4 電子 5Microscope) から 2 メートル以上 (T送信 E電子の場合) Microscope
)。経路に沿って、磁場、地面の振動、空気中の騒音、気流などの外部要因により、電子ビームが意図した経路から逸脱し、画像品質の低下につながる可能性があります。したがって、周囲の環境については特定の要件を満たす必要があります。[17]
パッシブ低周波電磁シールドには主に 2 つの方法があり、使用されるシールド材料が異なります。1 つの方法は高透磁率材料を使用します (鋼、シリコン鋼、ミューメタル合金など)。 もう 1 つの方法は高導電性材料を使用します（銅やアルミニウムなど）。これら 2 つの方法の動作原理は異なりますが、両方とも環境磁場の効果的な低減を実現します。
A. 磁気回路迂回法としても知られる高透磁率材料法
は、有限の空間(領域A)を高透磁率材料で囲うことによって機能します。環境磁場の強さが Ho の場合、高透磁率材料の磁気抵抗は空気の磁気抵抗よりもはるかに小さくなります (一般的な Q195 鋼の透磁率は 4000、ケイ素鋼の範囲は 8000 ～ 12000、ミューメタル合金の透磁率は 4000 です)。は 24000 ですが、空気のおおよその値は 1) です。オームの法則を適用すると、Rs が Ro よりもはるかに小さい場合、密閉空間 (領域 A) 内の磁場強度は Hi まで減少し、減磁が達成されます (図 1 および図 2 を参照。ここで、Ri は空間 A 内の空気磁気抵抗を表し、Rs ははシールド材の磁気抵抗を表します)。シールド材の内側では、磁場の作用により磁区が振動し、磁気エネルギーを熱として放散します。[31] 
ケイ素鋼とミューメタル合金は浸透率に異方性を示し、建設中にハンマーで叩いたり、曲げたり、溶接したりすることができないため（理論的には熱処理によってこれらの特性を改善できますが、大型の固定製品には非現実的です）、それらの有効な性能は次のとおりです。大幅に減少しました。ただし、ハンマーで叩いたり、曲げたり、溶接したりすることなく、特定の特別な領域で補助または補強の目的で使用することは可能です。
高透過性材料は高価であるため、一般に電子顕微鏡のシールドには広範囲には使用されず、少数の特定の領域 (ドアの隙間、導波路の開口部など) でのみ見られます。
磁気回路迂回法の有効性はシールド材の厚さにほぼ直線的に関係しており、理論的には無限に薄くすることが可能です。
B. 高導電性材料法
誘導磁場法とも呼ばれるこの方法は、有限の空間を高導電性材料で囲うことによって機能します。環境磁場は、その電場成分を介してシールド材に作用し、起電力を誘導し、誘導電流と誘導磁場を発生させます。電磁気学の基本原理に基づいて、この誘導磁場は、元の磁場と大きさが等しく (抵抗によりわずかに小さくなります)、方向が逆になります (わずかな位相の遅れがあります)。したがって、有限空間内の磁場は相殺されて弱まり、消磁が達成されます。
三相誘導電動機の動作を考慮することで、誘導磁界法をさらに理解することができ、誘導磁界の動作原理についての洞察が得られます。非同期かご形モータでは、かご棒が磁力線を切断できないため、回転磁界（50Hz×60s=3000RPM）を実現できず、誘導電流、誘導磁界、駆動力が発生しないことに注意してください。 .
誘導磁場法の有効性は、一定範囲内のシールド材の厚さに依存しません。
C. 両方の方法に共通する特徴: 完全溶け込み溶接が必要であり、溶接シームの高さはシールド材の厚さより小さくてはなりません。さまざまなスケールの開口部と導波管ポートの設計に注意を払う必要があります。設計/製造が成功するかどうかは、シールド効果 (「ウィークスト リンク」理論をシールドに適用する) に大きく影響します。また、シールドルーム内の電子顕微鏡の振動が周囲環境の振動を超えないよう注意することが重要です（磁場は検査に合格したものの、元より振動が大きくなり不適合となるケースもあります） ).
それらの基本的な動作原理から、磁気回路迂回法と誘導磁場法の両方が DC 場に対して効果がないことは明らかです。また、これらは一般に DC 付近の磁場に対しては効果がありません (そのような場合、DC 付近の電磁干渉を改善するにはアクティブ消磁器が必要です)。[66]
Aï=表で 2 つの方法を比較します。
|
利点 |
欠点 |
|
磁気回路流用 |
低コスト、調整可能なシールド効果 (理論的には無限)
|
重量が重くなる |
|
構築と生産が簡単です。
|
構築と生産が若干難しくなります。
|
|
|
誘導磁場 |
軽量化（アルミ） |
非強磁性材料を使用する |
|
|
その基本的なメカニズムにより、シールド効果は限られています。
|
注意深く分析すると、磁気回路流用法の方が有利です。パッシブ型低周波消磁装置は、小型、軽量、低コスト、環境に影響を与えない、購入後の設置が可能などの利点がある
。
ただし、注意すべき重要な点は、磁気シールドは多くの場合「委託」プロジェクトであることです。つまり、建設プロセス中に電気、水道、空調、照明、ネットワーク システム、監視が含まれることが多いことを意味します。したがって、改造が必要な場合にはコストパフォーマンスが高くなります
。
全体的に、パッシブ磁気シールドは消磁器よりも効果的ですが、前述の理由により、一部の環境では依然として消磁器が唯一の選択肢である可能性があります。
走査型電子顕微鏡の場合、これらの方法間の違いは重要ではありません。ただし、透過型電子顕微鏡の場合は、一般に走査型電子顕微鏡と比較して磁場の要件が高いため、可能な限り磁気シールドを使用することをお勧めします。
安定性、多用途性、柔軟性、効率性 CIQTEK SEM4000X は、安定性、多用途性、柔軟性、効率性に優れた 電界放射型走査型電子顕微鏡 (FE-SEM)です。 1.0kVで1.9nmの解像度を達成し、さまざまな種類のサンプルの高解像度イメージングの課題に簡単に取り組みます。ウルトラビーム減速モードにアップグレードして、低電圧分解能をさらに高めることができます。 この顕微鏡は、高分解能性能を提供しながら SE および BSE 信号を検出できるカラム内電子検出器 (UD) を備えたマルチ検出器技術を利用しています。チャンバーに取り付けられた電子検出器 (LD) には、結晶シンチレーターと光電子増倍管が組み込まれており、感度と効率が向上し、優れた品質の立体画像が得られます。グラフィック ユーザー インターフェイスはユーザー フレンドリーで、自動輝度とコントラスト、自動フォーカス、自動非点補正器、自動位置合わせなどの自動化機能を備えており、超高解像度画像の迅速なキャプチャが可能です。
もっと詳しく知る
大容量試料のクロススケールイメージングを実現する高速走査型電子顕微鏡 CIQTEK HEM6000高輝度大ビーム電流電子銃、高速電子ビーム偏向システム、高電圧試料ステージ減速、ダイナミック光軸、液浸電磁・静電コンボ対物レンズなどの設備技術ナノスケールの解像度を確保しながら高速画像取得を実現します。 自動化された操作プロセスは、より効率的かつスマートな大面積高解像度イメージング ワークフローなどのアプリケーション向けに設計されています。イメージング速度は、従来の電界放射型走査電子顕微鏡 (FESEM) よりも 5 倍以上高速に達することができます。
もっと詳しく知る
低励起下での高分解能 CIQTEK SEM5000Proは、低励起電圧下でも高分解能に特化したショットキー電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)です。高度な「スーパートンネル」電子光学技術を採用することで、静電磁複合レンズ設計と合わせてクロスオーバーのないビーム経路が容易になります。 これらの進歩により、空間帯電効果が低減され、レンズ収差が最小限に抑えられ、低電圧でのイメージング解像度が向上し、1 kV で 1.2 nm の解像度が達成され、非導電性または半導電性サンプルの直接観察が可能になり、サンプルを効果的に削減できます。放射線によるダメージ
もっと詳しく知る
集束イオン ビーム (FIB) カラムを備えた電界放射型走査電子顕微鏡 (FE-SEM) CIQTEK DB550 集束イオンビーム走査型電子顕微鏡 (FIB-SEM)は、ナノ分析および試料調製用の集束イオンビームカラムを備えています。これは、「スーパー トンネル」電子光学技術、低収差および非磁性対物レンズ設計を利用しており、ナノスケール分析能力を保証する「低電圧、高分解能」機能を備えています。 イオンカラムは、非常に安定した高品質のイオンビームを備えた Ga+ 液体金属イオン源を促進し、ナノ加工能力を確保します。 DB550 は、統合されたナノマニピュレーター、ガス注入システム、およびユーザーフレンドリーな GUI ソフトウェアを備えたオールインワンのナノ分析および製造ワークステーションです。
もっと詳しく知る
初心者でも使いやすい走査型電子顕微鏡 CIQTEK SEM2100 SEM 顕微鏡は、簡素化された操作プロセスを特徴とし、業界標準とユーザーの習慣に準拠した「ユーザー インターフェイス」設計を備えています。最小限のソフトウェアインターフェイスにもかかわらず、包括的な自動化機能、測定および注釈ツール、画像後処理管理機能、光学画像ナビゲーションなどを提供します。 SEM2100 のデザインは、「機能を犠牲にすることなくシンプルにする」というアイデアを完全に実現しています。
もっと詳しく知る
120kV 電界放射型透過電子顕微鏡 (TEM) １．分割されたワークスペース: ユーザーは、TEM への環境干渉を軽減する分割された部屋で快適に TEM を操作できます。 ２．高い運用効率: 指定されたソフトウェアは高度に自動化されたプロセスを統合し、リアルタイム監視による効率的な TEM インタラクションを可能にします。 ３．アップグレードされた操作体験: 高度に自動化されたシステムを備えた電界放出型電子銃を搭載。 ４．高い拡張性: ユーザーがより上位の構成にアップグレードできるように、さまざまなアプリケーション要件を満たす十分なインターフェイスが確保されています。
もっと詳しく知る
E2 Building, Innovation Industrial Park II, High-tech District, Hefei, Anhui, China
+86 551 62835225
+8615156059133
info@ciqtek.com
