集束イオンビーム (FIB) カラムを備えた電界放射型走査電子顕微鏡 (FE-SEM)
CIQTEK DB550 集束イオンビーム走査型電子顕微鏡 (FIB-SEM)は、ナノ分析および試料調製用の集束イオンビームカラムを備えています。これは、「スーパー トンネル」電子光学技術、低収差および非磁性対物レンズ設計を利用しており、ナノスケール分析能力を保証する「低電圧、高分解能」機能を備えています。
イオンカラムは、非常に安定した高品質のイオンビームを備えた Ga+ 液体金属イオン源を促進し、ナノ加工能力を確保します。 DB550 は、統合されたナノマニピュレーター、ガス注入システム、およびユーザーフレンドリーな GUI ソフトウェアを備えたオールインワンのナノ分析および製造ワークステーションです。
１． 「スーパートンネル」電子光学コラム技術/コラム内ビーム減速
空間帯電効果を低減し、低電圧分解能性能を確保します。
２．電子ビーム経路内でのクロスオーバーフリー
レンズ収差を効果的に低減し、解像度を向上させます。
3．電磁・静電複合対物レンズ
収差を低減し、低電圧での分解能を大幅に向上させ、磁性サンプルの観察を可能にします。
４．水冷恒温対物レンズ
対物レンズ性能の安定性、信頼性、再現性を確保します。
5. 電磁ビーム偏向による可変多孔絞り切り替えシステム
機械的な動作を必要としない絞り間の自動切り替えにより、さまざまなイメージング モード間の素早い切り替えが可能になります。
分解能: 3 nm@30 kV
プローブ電流: 1 pA ～ 65 nA
加速電圧範囲：0.5 kV ～ 30 kV
イオン源交換間隔: ≥1000 時間
安定性: 72 時間の連続動作
チャンバー内蔵
3軸全圧電駆動
ステッピング モーターの精度 ≤10 nm
最大移動速度 2 mm/s
統合制御システム
単一の GIS デザイン
さまざまなガス前駆体ソースが利用可能
針挿入距離 ≥35 mm
動作再現性 ≤10 μm
加熱温度制御再現性 ≦0.1℃
加熱範囲:室温〜90℃(194°F)
統合制御システム
半導体
半導体業界では、IC チップにさまざまな故障が発生することがあります。信頼性を向上させるために、さまざまな方法を使用してチップを分析します。特に、集束イオンビーム (FIB) 分析は信頼性の高い分析手法です。
試料の特性評価 / マイクロ・ナノ加工 / 断面解析 / TEM 試料作製 / 故障解析
新エネルギー産業
研究およびプロセス開発のための材料断面の観察と分析。
形態観察/粒度解析/断面解析/組成・相解析/リチウムイオン電池材料の故障解析/TEMサンプルP修復
セラミック素材
材料分析: FIB-SEM システムは、後方散乱電子 (BSE)、エネルギー分散型 X 線分光法 (EDX) などのさまざまな信号検出モードと組み合わせて、セラミック材料の高精度マイクロ・ナノ加工およびイメージングを実行できます。 、後方散乱電子回折パターン (EBSD)、および二次イオン質量分析 (SIMS) を使用して、3 次元空間で材料をマイクロからナノスケールで研究します。深さ
合金素材
金属の強度、硬度、靱性などを高めるために、冶金、鋳造、押出などの方法を使用して、セラミック、金属、繊維などの他の物質を金属に加えます。強化相と呼ばれます。
FIB-SEMで作製したTEM試料を用いて、透過電子信号により強化相や境界原子などの情報を観察します。 TEM 試験片は、透過菊池回折 (TKD) 分析、金属組織分析、組成分析、合金断面の現場試験に使用できます。
高度に統合されたユーザー インターフェイス プラットフォーム
SEM 顕微鏡のイメージングおよび処理機能は、全体的なユーザー インターフェイス内に統合されており、左右に比較参照が表示されます。
ガス注入システムやナノマニピュレーターなどの自社開発のアクセサリ ハードウェアとユーザー インターフェイス、使いやすい操作のための直感的なレイアウト設計。
チャンバーの汚染を効果的に軽減します。リニアガイドレール設計、引き出し式開閉。
エネルギー分散型分光分析
カソーミネッセンス
EBSD
| CIQTEK FIB-SEM DB550 仕様 | ||
| 電子光学 | 電子銃タイプ | 高輝度ショットキー電界放出型電子銃 |
| 解決策 | 0.9nm@15kV; 1.6nm@1kV | |
| 加速電圧 | 0.02kV～30kV | |
| イオンビームシステム | イオン源の種類 | ガリウム |
| 解像度 | 3 nm@30 kV | |
| 加速電圧 | 0.5kV～30kV | |
| 標本室 | 真空システム | 全自動制御オイルフリー真空システム |
| カメラ |
3 台のカメラ (光学ナビゲーションx1 + チャンバーモニターx2) |
|
| ステージタイプ | 電動 5 軸機械式ユーセントリック試料ステージ | |
| ステージ範囲 |
X=110mm、Y=110mm、Z=65mm T:-10°~+70°、R:360° |
|
| SEM 検出器と拡張機能 | スタンダード |
レンズ内電子検出器 エバーハート・ソーンリー検出器 (ETD) |
| オプション |
格納式後方散乱電子検出器 (BSED) 格納式走査型透過電子顕微鏡検出器 (STEM) エネルギー分散型分光計(EDS/EDX) 後方散乱電子回折パターン (EBSD) ナノマニピュレーター ガスインジェクションシステム プラズマクリーナー 標本交換ロードロック トラックボール & ノブ コントロール パネル |
|
| ユーザーインターフェース | 言語 | 英語 |
| オペレーティングシステム | ウィンドウ | |
| ナビゲーション | 光学式ナビゲーション、ジェスチャークイックナビゲーション | |
| 自動機能 | 自動明るさとコントラスト、自動フォーカス、自動スティグマメーター | |
超高分解能フィールド排出走査型電子顕微鏡（FESEM） CIQTEK SEM5000X 最適化された電子光学カラムの設計を備えた超高解像度FESEMであり、全体的な異常を30％削減し、0.6 nm@15 kVおよび1.0 nm@1 kVの超高解像度を達成しました。その高解像度と安定性により、高度なナノ構造材料の研究、およびハイテクノードの半導体ICチップの開発と製造において、それを有利にします
もっと詳しく知る
大ビーム I を備えた分析用電界放射型走査電子顕微鏡 (FESEM) CIQTEK SEM4000Proは、高輝度・長寿命のショットキー電界放出型電子銃を搭載したFE-SEMの解析モデルです。 3 段階の電磁レンズ設計 は、EDS / EDX、EBSD、WDS などの分析アプリケーションに大きな利点をもたらします。低真空モードと高性能低真空二次電子検出器、および格納可能な反射電子検出器が標準装備されており、導電性の低いまたは非導電性の試料の観察に役立ちます。
もっと詳しく知る
次世代タングステンフィラメント走査型電子顕微鏡 CIQTEK SEM3300走査型電子顕微鏡 (SEM)には、「スーパートンネル」電子光学、インレンズ電子検出器、静電および電磁複合対物レンズなどの技術が組み込まれています。これらの技術をタングステン フィラメント顕微鏡に適用することにより、このような SEM の長年の分解能限界が超えられ、以前は電界放出型 SEM でのみ達成できた低電圧分析タスクをタングステン フィラメント SEM で実行できるようになりました。
もっと詳しく知る
Ciqtekを読んでください SEM顕微鏡 顧客の洞察とlCiqtekの強みとSEM業界のリーダーとしての成果についてさらに獲得してください！メール： info@ciqtek.com
もっと詳しく知る
No. 1969, Kongquetai Road, High-tech Zone, Hefei, Anhui, China
+86 551 62835225
+8615156059133
+8613083191369
info@ciqtek.com
